Deep X-ray lithography at ELETTRA using a central beam-stop to improve structure adhesion on the substrate
| Autor: | PERENNES F, PANTENBURG F. J., VESSELLI, ERIK |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Perennes, F, Vesselli, Erik, Pantenburg, F. J. |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2002 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|