Comparison between hybrid and porous dielectric material (SiOCH) integration strategies for interconnect technologies

Autor:	Ducoté, J., David, T., Posseme, N., Chevolleau, T., Gall, S., Zenasni, A., Jousseaume, V., Inglebert, R.L., Vérove, C., Joubert, O.
Přispěvatelé:	Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2008
Předmět:	ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	55th International AVS Symposium & Topical Conferences 55th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2008, boston, United States
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::cc8a41fa4139ae0d4428b7af3fe8cae3 https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00399958 Zobrazit plný text záznamu