Study of Metallic Interfaces Etching for High-K Metal Gate stacks in CMOS 28 nm Technology
| Autor: | Chave, F., Vallier, L., Gouraud, P., Baudot, S., Camille Petit-Etienne, Vérove, C., Joubert, O. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), STMicroelectronics [Crolles] (ST-CROLLES), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2011 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | AVS 58th International Symposium and Exhibition AVS 58th International Symposium and Exhibition, Oct 2011, Nashville, United States HAL |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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