Influence of alumina thickness on formation of TCP layer on aluminium

Autor:	Swiatowska, Jolanta, R., Viroulaud, S., Zanna, A., Seyeux, P., Marcus
Přispěvatelé:	Institut de Recherche de Chimie Paris (IRCP), Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Paris - Chimie ParisTech-PSL (ENSCP), Université Paris sciences et lettres (PSL)-Université Paris sciences et lettres (PSL)-Ministère de la Culture (MC), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Paris sciences et lettres (PSL), Swiatowska, Jolanta
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2018
Předmět:	[CHIM.INOR] Chemical Sciences/Inorganic chemistry [CHIM.MATE] Chemical Sciences/Material chemistry [CHIM] Chemical Sciences [CHIM]Chemical Sciences [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry [CHIM.INOR]Chemical Sciences/Inorganic chemistry ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	8th Aluminium Surface Science and Technology Symposium (ASST2018) 8th Aluminium Surface Science and Technology Symposium (ASST2018), May 2018, Helsingør, Denmark
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::c87fc569040493d768af08722b3db6b2 https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02325879 Zobrazit plný text záznamu