III-V/Ge Heterostructure Plasma Etching and Passivation With a Single Plasma Process for Low-Damage Multijunction Solar Cell Fabrication
| Autor: | Lafontaine, Mathieu de, Pargon, E., Gay, G., Petit-Etienne, C., Barnes, J., Rochat, N., VOLATIER, M., JAOUAD, A., FAFARD, S., Aimez, V., Darnon, M. |
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| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA), Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] (3IT), Université de Sherbrooke (UdeS), Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke] (LN2), Université de Sherbrooke (UdeS)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-École Supérieure de Chimie Physique Électronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2021 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | AVS 67 Virtual Symposium AVS 67 Virtual Symposium, Oct 2021, Virtual Symposium, France AVS 67 Virtual Symposium, Oct 2021, Virtual Symposium, United States |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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