Resolution limit of negative tone chemically amplified resists used for hybrid lithography: influence of the molecular weight
| Autor: | Pain, L., Gourgon, C., Higgins, C., Scarfogliere, B., Tedesco, S., Dalzotto, B., Ribeiro, M., Takeyama, R., Kusumoto, T., Suetsugu, T. |
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| Přispěvatelé: | Clot, Marielle, Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2000 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | J. Vac.Sci.Technol J. Vac.Sci.Technol, 2000, pp.B18 (6), 3388 Journal of Vacuum Science and Technology Journal of Vacuum Science and Technology, 2000, pp.B18 (6), 3388 |
| ISSN: | 0022-5355 |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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