Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé
| Autor: | Chevalier, X., Zelsmann, M., Pound-Lana, G., Bezard, P., Serege, M. |
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| Přispěvatelé: | Clot, Marielle, Arkema (Arkema), Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
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| Zdroj: | France, Patent n° : FR3105755. 2019 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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