In situ and ex situ monitoring and metrology for the development of a selective deposition process
| Autor: | Vallee, C., Gassilloud, R., Pelissier, B., Vallat, R., Pesce, V., Salicio, O., Grehl, T., Brüner, P., Posseme, N., Gonon, P., Bsiesy, A. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Centre Interuniversitaire de Micro-Electronique (CIME), Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG), Clot, Marielle |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2018 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | 18th International Conference on Atomic layer Deposition (ALD2018) 18th International Conference on Atomic layer Deposition (ALD2018), Jul 2018, Incheon, South Korea |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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