GISAXS studies of nanocavities and defects induced by He and Ne implantation in Si

Autor: Babonneau, D., Peripolli, S., Beaufort, M.F., Barbot, J-F., Simon, J.P.
Přispěvatelé: Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2007
Předmět:
Zdroj: 2nd Workshop: GISAXS-an advanced scattering method
2nd Workshop: GISAXS-an advanced scattering method, May 2007, Germany
Databáze: OpenAIRE