WET and SiconiTM cleaning sequences for SiGe pMOS channel
| Autor: | Raynal, P.E., Loup, V., Vallier, L., Martin, M., Moeyaert, J., Pelissier, B., Hartmann, J.M., Besson, P. |
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| Přispěvatelé: | Clot, Marielle, Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2017 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | 19th Surface Preparation and Cleaning Conference (SPCC 2017) 19th Surface Preparation and Cleaning Conference (SPCC 2017), 2017, austin, United States |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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