Incorporación de metal en capas de carbono amorfo hidrogenado mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma de resonancia ciclotrónica de electrones = Metal incorporation in hydrogenated amorphus carbon films deposited by biased electron cyclotron resonance chemical vapour deposition

Autor:	Pardo Pérez, Ainhoa
Přispěvatelé:	Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina, Buijnsters, Josephus Gerardus, Universidad Autónoma de Madrid. Departamento de Física Aplicada, CSIC. Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2012
Předmět:	Nanostructuras - Tesis doctorales Nanotecnología - Tesis doctorales
Zdroj:	Biblos-e Archivo. Repositorio Institucional de la UAM instname
Popis:	Tesis doctoral inédita de la Universidad Autónoma de Madrid. Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 21-06-2012
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::9bda08e164bc18909acc24f4b6f9ff39 https://hdl.handle.net/10486/12299 Zobrazit plný text záznamu