Procédé de lithographie par auto-assemblage dirigé

Autor: Chevalier, X., Serege, M., Correia, C. Gomes, Zelsmann, M., Fleury, G.
Přispěvatelé: Arkema (Arkema), Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA), Clot, Marielle
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2019
Předmět:
Zdroj: France, Patent n° : FR1911521. 2019
Databáze: OpenAIRE