Effect of the process parameters of inductively coupled plasma reactive ion etching on the fabrication of diamond nanotips

Autor: Mehedi, Hasan-Al, MILLE, Vianney, Achard, Jocelyn, Brinza, Ovidiu, Gicquel, Alix
Přispěvatelé: Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux (LSPM), Université Paris 13 (UP13)-Institut Galilée-Université Sorbonne Paris Cité (USPC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2014
Předmět:
Zdroj: physica status solidi (a)
physica status solidi (a), Wiley, 2014, 211 (10), pp.2343-2346. ⟨10.1002/pssa.201431258⟩
ISSN: 0031-8965
1862-6319
DOI: 10.1002/pssa.201431258⟩
Popis: International audience
Databáze: OpenAIRE
Externí odkaz: