Alpha-Soft Error Rate due to new generations of high-k gate oxides and metal gate electrodes in a 32 nm node

Autor: Gedion, M., Wrobel, Frédéric, Saigné, F., Schrimpf, R. d.
Přispěvatelé: Institut d’Electronique et des Systèmes (IES), Université de Montpellier (UM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Radiations et composants (RADIAC), Université de Montpellier (UM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Montpellier (UM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Vanderbilt University [Nashville]
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2011
Předmět:
Zdroj: RADECS 2011
RADECS 2011, 2011, Seville, Spain
Popis: International audience
Databáze: OpenAIRE