Plasma etching processes for future electronic devices
| Autor: | Pargon, E., Martin, M., Sungauer, E., Luere, O., Menguelti, K., Mellhaoui, X., Chevolleau, T., Cunge, G., Vallier, L., Joubert, O., Morel, T., Barnola, S., Foucher, J., Lill, T. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2008 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE) Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE), 2008, toulouse, France |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|