Use of ARXPS for studying the oxidation kinetic of tantalum carbide (TaC) 200mm wafers
| Autor: | Pelissier, B., Beaurain, A., Dubarry, C., Nolot, E., Joubert, O. |
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| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2007 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Présentation ECASIA Présentation ECASIA, 2007, Bruxelles, Belgium |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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