Deposition of SiO2 films with high laser-damage threshold by ion-assisted electron-beam evaporation

Autor: Alvisi, M., Giorgio De Nunzio, Massimo Di Giulio, Ferrara, M. C., Maria Rita Perrone, Protopapa, L., Lorenzo Vasanelli
Přispěvatelé: M., Alvisi, DE NUNZIO, Giorgio, DI GIULIO, Massimo, M. C., Ferrara, Perrone, Maria Rita, L., Protopapa, Vasanelli, Lorenzo
Zdroj: Università del Salento-IRIS
Databáze: OpenAIRE