Interfacial layer in the high-k dielectrics : characterization and suppression

Autor: Larrieu, G., Tao, M., Moumen, N., Moldonado, E., Kirk, W.P., Song, G., Bai, W., Kwong, D.L.
Přispěvatelé: Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN), Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2005
Zdroj: Proceedings of the 208th Meeting of the Electrochemical Society
Databáze: OpenAIRE