Surface nanopatterning by 193 nm photolythographie

Autor: Dirani, Ali, Ridaoui, Hassan, Wieder, Fernand, Soppera, Olivier
Přispěvatelé: Photomatériaux pour l'Optique et les Nanotechnologies (PHOTON LRC 7228), Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA)), Turck, Colette
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2010
Předmět:
Zdroj: 12èmes Journées de la Matière Condensée
12èmes Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, TROYES, France
Databáze: OpenAIRE