Surface nanopatterning by 193 nm photolythographie
Autor: | Dirani, Ali, Ridaoui, Hassan, Wieder, Fernand, Soppera, Olivier |
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Přispěvatelé: | Photomatériaux pour l'Optique et les Nanotechnologies (PHOTON LRC 7228), Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA)), Turck, Colette |
Jazyk: | angličtina |
Rok vydání: | 2010 |
Předmět: | |
Zdroj: | 12èmes Journées de la Matière Condensée 12èmes Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, TROYES, France |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |