Ultra-high selective etching in remote plasmas: application to smart etch processes
| Autor: | Cunge, G., Camille Petit-Etienne, Vallier, L., Dubois, J., Soriano, R., Prevost, E., Martirosyan, V., Chambettaz, F., Bizouerne, M., Bellegarde, C., Raynal, P., Renaud, V., Pargon, E., Despiau−pujo, E., Bisserier, J., Buttet, C., Lagrasta, S. |
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| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Clot, Marielle |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2017 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | PESM 2017 (Plasma Etch and Strip in Microtechnology) PESM 2017 (Plasma Etch and Strip in Microtechnology), 2017, Louvain, Belgium HAL |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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