Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF6/CH4/O2/Ar y SF6/CF4/O2/Ar

Autor:	Reyes-Betanzo, C., Moshkalyov, S. A., Jacobus Swart
Zdroj:	Scopus-Elsevier
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::43546c582cc57787ed9ccdc33e20554b http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-2442438511&partnerID=MN8TOARS Zobrazit plný text záznamu