Etude des phénomènes d'injection et de stockage de charges électriques dans des couches minces de SiO x N y par microscopie à sonde de Kelvin (KPFM)
| Autor: | Mortreuil, F., Villeneuve-Faure, C., Boudou, L., Makasheva, K., Gilbert Teyssedre |
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| Přispěvatelé: | LAboratoire PLasma et Conversion d'Energie (LAPLACE), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Diélectriques Solides et Fiabilité (LAPLACE-DSF), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Matériaux et Procédés Plasmas (LAPLACE-MPP), Teyssedre, Gilbert |
| Jazyk: | francouzština |
| Rok vydání: | 2014 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | 9e Conférence Société Française d'Electrostatique (SFE), Toulouse, France, 27-29 Aout 2014 9e Conférence Société Française d'Electrostatique (SFE), Toulouse, France, 27-29 Aout 2014, Aug 2014, Toulouse, France. pp. 134-139 HAL |
| Popis: | International audience; L'évolution des charges injectées, en surface ou à proximité, au cours du temps peut être caractérisée par l'observation des variations du potentiel de surface résultant. Des mesures à l'échelle locale sont possibles grâce à la microscopie à sonde de Kelvin (KPFM). Dans ce papier, nous nous proposons d'étudier l'influence des conditions d'injection et de l'épaisseur de la couche isolante sur l'évolution au cours du temps des charges électriques. Deux comportements distincts seront mis en évidence par les mesures KPFM ainsi que la mesure du courant électrique traversant la couche de SiO x N y lors de l'injection. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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