Surface roughening of tensilely strained Si$_{1-x-y}$Ge$_x$C$_y$ films grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition
| Autor: | Calmes, C., Bouchier, D., Debarre, D., Clerc, C. |
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| Přispěvatelé: | Centre de Spectrométrie Nucléaire et de Spectrométrie de Masse (CSNSM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National de Physique Nucléaire et de Physique des Particules du CNRS (IN2P3)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11), Lorgeril, Jocelyne |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2002 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Applied Physics Letters Applied Physics Letters, American Institute of Physics, 2002, 81, pp.2746-2748 |
| ISSN: | 0003-6951 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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