Efficient integration of low refractive index active materials on CMOS compatible photonics platform based on half etch slot waveguide

Autor:	Orobtchouk, R., Belarouci, A., Bertrand Vilquin, Rojo Romeo, And P.
Přispěvatelé:	INL - Nanophotonique (INL - Photonique), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2019
Předmět:	[SPI]Engineering Sciences [physics] [SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic ComputingMilieux_MISCELLANEOUS
Zdroj:	Photonics North 2019 Photonics North 2019, May 2019, Québec, Canada HAL
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::2790a780f423c10f44bd1d9b8d51272a https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02400614 Zobrazit plný text záznamu