Advance in low-k cryogenic etching of porous organoscilicate : Investigation of a new gas with higher boiling point Organic (HBPO) and comparison with C4F8
| Autor: | Leroy, Floriane, Brochu, Nataniel, Chanson, Romain, Dussart, Remi, Tillocher, Thomas, De Marneffe, Jean-Francois, Zhang, Liping, Maekawa, Kaoru, Yatsuda, Koichi, Shigeru, Tahara, Dussarrat, Christian |
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| Přispěvatelé: | Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (GREMI), Université d'Orléans (UO)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), IMEC (IMEC), Catholic University of Leuven - Katholieke Universiteit Leuven (KU Leuven), Tokyo Electron (TEL), Centre Technique des Applications du Soudage (CTAS), Air Liquide [Siège Social] |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2016 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Plasma Etch and Strip in Microtechnology Plasma Etch and Strip in Microtechnology, May 2016, Grenoble, France |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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