SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies

Autor:	Lakcher, Amine, Bidault, Laurent, Ducote, Julien, Mortini, Etienne, Ostrovsky, Alain, Le-Gratiet, Bertrand, Berthier, Ludovic, Jamin-Mornet, Clémence, Besacier, Maxime, Kye, Jongwook, Owa, Soichi
Přispěvatelé:	Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), STMicroelectronics [Crolles] (ST-CROLLES), Clot, Marielle
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2018
Předmět:	[PHYS]Physics [physics] ComputingMilieux_MISCELLANEOUS [PHYS] Physics [physics]
Zdroj:	Proceedings SPIE Advanced Lithography SPIE Advanced Lithography, 2018, San José, United States
Popis:	International audience
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::1be7b6e96408848899f8ca0b2da27deb https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01948097 Zobrazit plný text záznamu