Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration
Autor: | Kovtun, Y. V., Skibenko, E. I., Skibenko, A. I., Kuprin, A. S., Ozerov, A. N., Syus’ko, E. V., Volodymyr Yuferov |
---|---|
Zdroj: | Scopus-Elsevier |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |