Utjecaj razvijača i otopine za vlaženje na kut vlaženja ctp ofsetnih ploča

Autor: Lisjak, Petar
Jazyk: chorvatština
Rok vydání: 2006
Předmět:
Popis: Ispitivanja fizikalno-kemijskih svojstava dobivenog uzorka otopine za vlaženje provedena su na uzorcima CtP ofsetnih ploča koje su sukcesivno odvajane prilikom razvijanja počevši od potpuno novog razvijača, pa do njegove istrošenosti i zamjene. Također se ispitivala otopina za vlaženje, te zavisno o njenoj koncentraciji određivala su se fizikalno-kemijska svojstva kao što su električna provodnost, pH vrijednost, napetost površine, te kontaktni kut na slobodnim površinama uzoraka CtP tiskovnih formi zavisno o broju razvijenih ploča u istom volumenu razvijača. Dobiveni rezultati ukazuju da otopina za vlaženje povećanjem koncentracije smanjuje površinsku napetost, dok električna provodnost uzoraka otopine za vlaženje konstantno raste. Proces vlaženja odvija se u blago kiselom mediju (pH vrijednost iznosi između 4.4 i 4.6), što ukazuje da su u otopinu dodane soli koje djeluju kao puferi. Kontaktni kut, kao mjera dobrog vlaženja, smanjuje se povećanjem koncentracije otopina za vlaženje, a povećava brojem razvijenih ploča, te na taj način omogućuava dobro vlaženje slobodnih površina tiskovne forme. Otopina za vlaženje uspješno djeluje pri koncentraciji već od 30 - 40 vol %, jer je kontaktni kut dovoljno mali, što ukazuje na dobro razlijevanje otopine za vlaženje po površini tiskovne forme, a time i dobro vlaženje kao jedan od najvažnijih faktora u plošnom tisku. Nazočnost površinski aktivnih tvari značajno smanjuje slobodnu površinsku energiju otopina, pa se time smanjuje kontaktni kut mjeren na slobodnim površinama. Kontaktni kut linearno je zavisan o površinskoj napetosti. Linearna zavisnost kontaktnog kuta o površinskoj napetosti ukazuje na dobru kombinaciju svih dodataka u otopini za vlaženje, prvenstveno površinski aktivnih tvari.
Databáze: OpenAIRE