Electrical properties of atomic layer deposited (ALD) TiO2 films

Autor:	Saarilahti, Jaakko, Kattelus, Hannu, Luoto, Hannu
Jazyk:	angličtina
Rok vydání:	2006
Zdroj:	Saarilahti, J, Kattelus, H & Luoto, H 2006, Electrical properties of atomic layer deposited (ALD) TiO2 films . in MAM-2006 : Book of Abstracts . pp. 258-259, MAM-2006: Materials for Advanced Metallization, Grenoble, Switzerland, 6/03/06 .
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::6c23084cd1e7bff24400b1b58923588f https://cris.vtt.fi/en/publications/d620b0c1-bd3e-4d38-862b-110061827673 Zobrazit plný text záznamu