Effect of electron beam parameters on CBED patterns from interfaces

Autor:	Bokel, R. M. J., Schapink, F. W., Tichelaar, F. D.
Zdroj:	Ultramicroscopy; 1998, Vol. 75 Issue: 3 p183-195, 13p
Databáze:	Supplemental Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect