| Autor: |
Boher, P., Paret, V., Robic, J.-Y., Marmoret, R., Schmidt, M., Cachoncinlle, C., Geyl, R., Fermé, J.-J., Vidal, B., Barbiche, J.-M., Boher, P., Paret, V., Robic, J.-Y., Marmoret, R., Schmidt, M., Cachoncinlle, C., Geyl, R., Fermé, J.-J., Vidal, B., Barbiche, J.-M. |
| Zdroj: |
Journal de Physique IV - Proceedings; June 2003, Vol. 108 Issue: 1 p217-225, 9p |
| Abstrakt: |
PREUVE est un projct fédérateur d'acteurs Français (groupes industriels, PME, Laboratoires de Recherche publics et universitaires). Il se situe dans le cadre du développement de la prochaine génération de lithographie pour fa micro-électronique avancée, et en particulier la réalisation de circuits aux dimensions sub-micrométriques. Les développements réalisés dans le cadre de PREUVE portent sur plusieurs points clés de la lithographie extrême ultraviolet (EUV) : L'article ci-après résume quelques points clés de ce projet réunis autour d'un descriptif du banc d'essai de lithographie qui fédère l'essentiel des efforts du programme. |
| Databáze: |
Supplemental Index |
| Externí odkaz: |
|
