| Autor: |
Bridou, F., Cauchon, G., Idir, M., Bridou, F., Cauchon, G., Idir, M. |
| Zdroj: |
Journal de Physique IV - Proceedings; November 2004, Vol. 118 Issue: 1 p137-142, 6p |
| Abstrakt: |
L'analyse de l'intensité du rayonnement de fluorescence des multicouches périodiques en fonction des angles d'incidence ou d'émission, peut constituer une méthode de caractérisation non destructive capable de déterminer le profil de concentration en profondeur d'un élément donné, notamment au niveau des interfaces où ce profil influe considérablement sur les performances optiques dans le domaine X-UV. Le principe de la méthode consiste à exciter la fluorescence d'un des deux matériaux de l'empilement par une radiation d'énergie supérieure à celle du seuil d'absorption de l'élément considéré. Celui-ci va émettre son propre rayonnement à l'intérieur de la multicouche. La répartition d'intensité est modulée selon la distribution géométrique des sources de rayonnement (donc de l'élément excité) à l'intérieur de l'empilement. On présente ici les résultats qui ont pu êtres obtenus à partir du rayonnement d'une source synchrotron (SB3_LURE) pour étudier une multicouche Mo/Si de 50 périodes. On a pu ainsi exciter d'une part la fluorescence du silicium, puis celle du molybdène, et montrer que les informations obtenues sur la répartition des éléments dans la multicouche étaient complémentaires. |
| Databáze: |
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