Autor:	Park, G.S., Choi, J.J., Park, S.Y., Kyser, R.H., Wood, F., Calise, F., Longrie, G., Parker, R.K., Scheitrum, G.P., Higgins, L., Bemis, R.K.
Zdroj:	International Conference on Plasma Science (Papers in Summary Form only Received); 1995, p124-125, 2p
Databáze:	Complementary Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu