Novel electrostatic column for ion projection lithography.

Autor: Chalupka, A., Stengl, G., Buschbeck, H., Lammer, G., Vonach, H., Fischer, R., Hammel, E., Löschner, H., Nowak, R., Wolf, P., Finkelstein, W., Hill, R. W., Berry, I. L., Harriott, L. R., Melngailis, J., Randall, J. N., Wolfe, J. C., Stroh, H., Wollnik, H., Mondelli, A. A.
Zdroj: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1994, Vol. 12 Issue 6, p3513-3517, 5p
Databáze: Complementary Index