Excimer laser processing for a-Si and poly-Si thin film transistors for imager applications.

Autor:	Lu, J. P., Mei, P., Fulks, R. T., Rahn, J., Ho, J., Wang, Y., Boyce, J. B., Street, R. A.
Zdroj:	Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 4, p1823-1829, 7p
Databáze:	Complementary Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu