High contact resistance heavily doped silicided p+ junctions.

Autor:	Twiford, Michael S., Stevie, F. A., Prather, E. B., Thoma, Morgan J., Cochran, William T.
Zdroj:	Proceedings of SPIE; Nov1996, Issue 1, p360-366, 7p
Databáze:	Complementary Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu