MOCVD of YF3 and Y1–xErxF3 Thin Films from Precursors Synthesized In SituThe authors gratefully thank MIUR (Ministero dell'Istruzione, dell'Università e della Ricerca) for financial support (FISR, Fondo Integrativo Speciale per la Ricerca, project).

Autor: G. G. Condorelli, G. Anastasi, I. L. Fragalà
Zdroj: Chemical Vapor Deposition; Jul2005, Vol. 11 Issue 6/7, p324-329, 6p
Databáze: Complementary Index
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