高速旋转垂直热壁 CVD 外延生长 n 型 4H-SiC 膜的研究.

Autor: 韩跃斌, 蒲 勇, 施建新, 闫鸿磊
Předmět:
Zdroj: Journal of Synthetic Crystals; May2023, Vol. 52 Issue 5, p918-924, 7p
Databáze: Complementary Index