Modification of semiconducting copper oxide thin films using ion implantation.

Autor:	UNGEHEUER, Katarzyna, MARSZALEK, Konstanty W., MITURA-NOWAK, Marzena, KAKOL, Zbigniew
Předmět:	COPPER oxide films ION implantation SEMICONDUCTOR thin films MAGNETRON sputtering ION energy COPPER oxide ION beams
Zdroj:	Przegląd Elektrotechniczny; 2022, Vol. 98 Issue 9, p255-258, 4p
Databáze:	Complementary Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu