Ultra Thin No/N20 Oxynitride Dielectric for Advanced Flash Memory Application: Single Wafer and Batch Technology.

Autor: Zonca, R., Crivelli, B., Polignano, M. L., Cazzaniga, F., Alessandri, M., Caricato, A. P., Bersani, M., Sbetti, M., Vanzetti, L., Xing, G. C., Miner, G. E., Astici, N., Kuppurao, S., Lopes, D., Nesso, S.
Zdroj: MRS Online Proceedings Library; 1999, Vol. 592 Issue 1, p161-166, 6p
Databáze: Complementary Index
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