Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition.

Autor:	Sun, Rongyan, Yang, Xu, Watanabe, Keiichiro, Miyazaki, Shiro, Fukano, Toru, Kitada, Masanobu, Arima, Kenta, Kawai, Kentaro, Yamamura, Kazuya
Zdroj:	Nanomanufacturing & Metrology; Sep2019, Vol. 2 Issue 3, p168-176, 9p
Databáze:	Complementary Index
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.