新型碱性清洗液对CMP后残留SiO2颗粒的去除.

Autor: 杨柳, 刘玉岭, 檀柏梅, 高宝红, 刘宜霖
Zdroj: Electronic Components & Materials; may2018, Vol. 37 Issue 5, p95-106, 6p
Databáze: Complementary Index