Autor: |
Shahnazarova G; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat.; Universitat Autònoma de Barcelona, 08193 Cerdanyola del Vallès, Barcelona, Spain., Al Hoda Al Bast N; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat.; Universitat Autònoma de Barcelona, 08193 Cerdanyola del Vallès, Barcelona, Spain., Ramirez JC; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat.; Universitat Autònoma de Barcelona, 08193 Cerdanyola del Vallès, Barcelona, Spain., Nogues J; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat.; ICREA, Pg. Lluís Companys 23, 08010 Barcelona, Spain., Esteve J; Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB-CNM, CSIC), Barcelona, 08193, Spain. borja.sepulveda@csic.es., Fraxedas J; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat., Serra A; Grup d'Electrodeposició de Capes Primes i Nanoestructures (GE-CPN), Departament de Ciència de Materials i Química Física, Universitat de Barcelona, Martí i Franquès, 1, E-08028, Barcelona, Catalonia, Spain.; Institute of Nanoscience and Nanotechnology (IN2UB), Universitat de Barcelona, Barcelona, Catalonia, Spain., Esplandiu MJ; Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and BIST, Campus UAB, Bellaterra, E-08193 Barcelona, Spain. mariajose.esplandiu@icn2.cat., Sepulveda B; Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB-CNM, CSIC), Barcelona, 08193, Spain. borja.sepulveda@csic.es. |