Simulation of deposition processes with PECVD apparatus : theory and applicatios. [electronic resource]

Autor:	Geiser, Juergen, author
Další autoři:	Arab, Meraa, author
Jazyk:	angličtina
Informace o vydání:	New York : Nova Publishers, [2012]
Předmět:	Plasma-enhanced chemical vapor deposition -- Mathematical models Plasma-enhanced chemical vapor deposition -- Computer simulation Electronic books
Druh dokumentu:	Bibliographies; Online; Non-fiction; Electronic document
Databáze:	Vybrané kolekce e-knih
Externí odkaz:	Kolekce e-knih KNAV Registrovani uzivatele: plny text online 5 minut, dalsi pristup na vyzadani. Registered users: full text online 5 minutes, further access on request.