Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system. [electronic resource]

Autor:	Samukawa, Seiji, author
Jazyk:	angličtina
Informace o vydání:	Tokyo, [Japan] : Springer, 2014.
Předmět:	Plasma engineering -- Industrial applications Plasma etching -- Computer simulation Electronic books
Druh dokumentu:	Bibliographies; Online; Non-fiction; Electronic document
ISSN:	2191-5318
Databáze:	Vybrané kolekce e-knih
Externí odkaz:	Kolekce e-knih KNAV Registrovani uzivatele: plny text online 5 minut, dalsi pristup na vyzadani. Registered users: full text online 5 minutes, further access on request.