Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému = ZnO thin films prepared by multi SWD plasma jet system.
Další autoři: |
Olejníček, Jiří, 1976-
Hubička, Zdeněk, 1972-
|
---|---|
Jazyk: | čeština |
Předmět: | |
Druh dokumentu: | Non-fiction |
Abstrakt: | Abstract: V článku je popsaná vícesvazková plazmová aparatura se čtyřmi nezávislými tryskami pracujícími na principu výboje generovaného surfatronem. Tento unikární systém byl následně optimalizován pro depozice metodou plazmochemického napařování a použit pro přípravu ZnO tenkých vrstev a ZnO vrstev dopovaných hliníkem či manganem. Pomocí Langmuirovy sondy byly studovány časově rozlišené vlastnosti nízkotlakého plazmového svazku pracujícího v pulzním módu za účelem zjištění hustoty plazmatu a elektronové teploty v aktivní části plazmového kanálu. Následně byla připravena sada ZnO vzorků o tloušťce 300 nm, které byly analyzovány pomocí rentgenové difrakce, elektronové mikroskopie, povrchové profilometrie, UV světelné amperometrie, optické elipsometrie a dalších metod. Všechny zkoumané vzorky byly krystalické, vykazovaly vodivost typu N s šířkou zakázaného pásu 3,5 eV a byly fotoelektrochemicky aktivní. |
Databáze: | Katalog Knihovny AV ČR |
Externí odkaz: |