Impact and behavior of trace contaminants in high-purity plasma process gases.

Autor:	Allgood, Charles C.
Zdroj:	Solid State Technology. Sep99, Vol. 42 Issue 9, p63. 4p. 1 Diagram, 3 Charts, 4 Graphs.
Databáze:	Business Source Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.