Formation of ultra-shallow junctions by ion implantation and RTA.

Autor:	Foad, Majeed A., Jennings, Dean
Zdroj:	Solid State Technology. Dec98, Vol. 41 Issue 12, p43. 5p. 5 Graphs.
Databáze:	Business Source Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.