Data-Driven Analysis of High-Temperature Fluorocarbon Plasma for Semiconductor Processing.

Autor:	Jang, Sung Kyu1 (AUTHOR) skjang@keti.re.kr, Lee, Woosung1 (AUTHOR) wslee@keti.re.kr, Choi, Ga In1 (AUTHOR) gana034@keti.re.kr, Kim, Jihun1 (AUTHOR) kjh96@keti.re.kr, Kang, Minji2,3 (AUTHOR) kmj0302@kimm.re.kr, Kim, Seongho2,3 (AUTHOR) kimho6344@kimm.re.kr, Choi, Jong Hyun1 (AUTHOR) jhchoi@keti.re.kr, Kim, Seul-Gi1 (AUTHOR) seulgi11.kim@keti.re.kr, Lee, Seoung-Ki4 (AUTHOR) ifriend@pusan.ac.kr, Kim, Hyeong-U2,5 (AUTHOR) guddn418@kimm.re.kr, Kim, Hyeongkeun1 (AUTHOR) guddn418@kimm.re.kr
Zdroj:	Sensors (14248220). Nov2024, Vol. 24 Issue 22, p7307. 18p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.