A Model for Dry Electron Beam Etching of Resist.

Autor:	Sidorov, Fedor1 (AUTHOR) sidorov@ftian.ru, Rogozhin, Alexander1 (AUTHOR)
Zdroj:	Polymers (20734360). Oct2024, Vol. 16 Issue 20, p2880. 18p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.